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【行業(yè)深度】洞察2025:中國半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體市場規(guī)模及競爭格局(附市場規(guī)模、競爭格局等)

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20 袁業(yè) ? 2025-04-21 16:30:50  來源:前瞻產(chǎn)業(yè)研究院 E1441G0

本文核心數(shù)據(jù):中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模;中國半導(dǎo)體濕法設(shè)備中超純槽體成本占比;中國半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體市場規(guī)模;企業(yè)市占率等

半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體的概述

半導(dǎo)體濕法設(shè)備是用于半導(dǎo)體制造過程中的一系列設(shè)備,通過使用化學(xué)溶液與半導(dǎo)體材料進(jìn)行反應(yīng)來實(shí)現(xiàn)特定的工藝目的。

半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體是半導(dǎo)體濕法設(shè)備用于盛放晶圓片、化學(xué)清洗液、去離子水等物品的容器,半導(dǎo)體濕法設(shè)備關(guān)鍵零部件之一。根據(jù)化學(xué)液的濃度、酸堿度和使用溫度等條件,選擇合適的槽體材料至關(guān)重要。常見的材質(zhì)有NPP、PVDF、PTFE、石英玻璃和不銹鋼等。

半導(dǎo)體濕法設(shè)備主要包括濕法清洗刷洗設(shè)備及濕法刻蝕設(shè)備。目前在主流的芯片制程中,超過90%的芯片刻蝕都是干法,濕法刻蝕設(shè)備應(yīng)用較為有限。而濕法清洗是主流的清洗技術(shù)路線,占芯片制造清洗步驟數(shù)量的90%以上。因此本文中半導(dǎo)體濕法設(shè)備相關(guān)市場規(guī)模主要指半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模。

圖表1:半導(dǎo)體濕法設(shè)備及半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體概念

半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)分析

半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體的產(chǎn)業(yè)鏈上游環(huán)節(jié)主要由原材料及加工設(shè)備構(gòu)成,提供制造半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體所需的各類基礎(chǔ)材料。這些材料包括FTFE、PFA、PVDF等塑料原料。中游環(huán)節(jié)涉及半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體的設(shè)計(jì)、研發(fā)、生產(chǎn)制造和質(zhì)量控制。下游環(huán)節(jié)是半導(dǎo)體濕法設(shè)備制造。

圖表2:半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)

中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場分析:市場規(guī)模超150億元

根據(jù)Markets and Markets的數(shù)據(jù),2022-2024年中國全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備規(guī)模逐年增長,2022年、2023年、2024年全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模分別為89.95億美元、101.00億美元、111.50億美元(換算成人民幣分別為605.01億元、711.72億元、794.07億元),年均增速為14.56%。

圖表3:2022-2024年全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模情況(單位:億元)

根據(jù)前瞻產(chǎn)業(yè)研究院調(diào)研,2022年、2023年、2024年,中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模分別占全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備規(guī)模的17%、18%、20%,故2022年、2023年、2024年中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模分別為102.85億元、128.11億元、158.82億元。

圖表4:2022-2024年中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模情況(單位:億元)

中國半導(dǎo)體濕法設(shè)備中,超純槽體成本占比約2%

半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體是半導(dǎo)體濕法設(shè)備的關(guān)鍵部件,目前市場價(jià)格在3-5萬元左右,假設(shè)單臺清洗設(shè)備槽體需求為5個(gè),則2022年、2023年、2024年中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備的超純槽體成本分別為15.0萬元、17.5萬元、21.0萬元。

盛美上海為中國半導(dǎo)體濕法設(shè)備主要生產(chǎn)企業(yè)之一,按照盛美上海公布的年報(bào)數(shù)據(jù)計(jì)算,2022年、2023年、2024年其單臺清洗設(shè)備原材料總成本分別為765.6萬元、797.6萬元、1098.5萬元。2022年、2023年、2024年超純槽體成本占比分別為1.96%,2.19%,1.91%。

圖表5:2022-2024年中國半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體占半導(dǎo)體清洗設(shè)備成本的比重(單位:萬元,個(gè),億元,臺,%)

注:1)單臺清洗設(shè)備超純槽體成本=超純槽體單價(jià)*單臺清洗設(shè)備槽體需求;2)單臺清洗設(shè)備原材料成本=清洗設(shè)備原材料總成本/清洗設(shè)備產(chǎn)量;3)單臺清洗設(shè)備原材料超純槽體成本占比=單臺清洗設(shè)備超純槽體成本/單臺清洗設(shè)備原材料成本*100%。

中國半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體市場規(guī)模:2024年超過3億元

基于上述數(shù)據(jù),得到2022年、2023年、2024年中國半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體市場規(guī)模分別為2.02億元、2.81億元、3.03億元。

圖表6:2022-2024年中國半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體市場規(guī)模(單位:億元)

注:中國半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體市場規(guī)模=中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場規(guī)模*中國半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體成本占比。

中國半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體市場競爭格局:三家代表企業(yè)市占率接近70%

半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體對產(chǎn)品的技術(shù)要求較高,目前國內(nèi)能夠生產(chǎn)滿足半導(dǎo)體制造要求的企業(yè)主要有沃凱氟、沃特華本、霓佳斯等,其他企業(yè)市場份額占比較小。

圖表7:2022-2024年中國半導(dǎo)體濕法設(shè)備超純槽體市場競爭格局(單位:%)

更多本行業(yè)研究分析詳見前瞻產(chǎn)業(yè)研究院《全球及中國半導(dǎo)體儀器儀表行業(yè)發(fā)展前景展望與投資戰(zhàn)略規(guī)劃分析報(bào)告

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作者 袁業(yè)
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